机译:使用脉冲等离子体和热线CVD沉积技术的高沉积速率非晶和多晶硅材料的研究进展
Solar cells; Amorphous silicon; Polycrystalline materials; Semiconducting silicon; Plasma enhanced chemical vapor deposition; Photovoltaic cells; Hot wire chemical vapor deposition; Pulsed plasma deposition;
机译:使用脉冲等离子体和热线CVD沉积技术的高沉积速率非晶和多晶硅材料的研究进展
机译:通过热线化学气相沉积(HW-CVD)方法沉积氢化非晶硅(a-Si:H)膜:衬底温度的作用
机译:大面积热线CVD反应器中工艺参数的优化,用于沉积具有高度均一材料质量的太阳能电池应用中的非晶硅(a-Si:H)
机译:使用脉冲等离子PECVD技术的高沉积速率非晶硅太阳能电池和薄膜晶体管
机译:通过热线化学气相沉积法在薄膜光伏应用中合成大晶粒多晶硅。
机译:CVD石墨烯上等离子增强化学气相沉积法制备的无转移反型石墨烯/硅异质结构
机译:大气压等离子体化学气相沉积的非晶硅薄膜的高速率沉积。 (第一个报告)。具有旋转电极的大气压等离子体CVD装置的设计与生产。
机译:用于光伏应用的多晶硅和非晶硅的电沉积。 1979年12月1日至1980年2月29日第03号季度技术进步报告。