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机译:湿法化学氧化硅上的PECVD-AlOx / SiNx钝化叠层:电荷动力学和界面缺陷状态的恒压应力研究
Silicon; Surface passivation; Aluminum oxide; Silicon nitride; Capacitance voltage;
机译:湿法化学氧化硅上的PECVD-AlOx / SiNx钝化叠层:电荷动力学和界面缺陷状态的恒压应力研究
机译:氢在晶体硅表面上造成的缺陷终止,从而改善了催化化学气相沉积SiNx和SiNx / P催化掺杂层的钝化质量
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机译:PECVD-ALO_X / SIN_X钝极钝化堆栈:有效充电动力学和界面缺陷状态光谱
机译:二氧化硅和碳化硅之间的界面处的缺陷钝化的结构和化学性质。
机译:应变硅器件中界面充电动力学和应力条件的影响
机译:硅上的PECVD-AlOx / SiNx钝化叠层:有效的电荷动力学和界面缺陷状态光谱
机译:热氧化(100),(110),(111),(511)硅中si-siO2界面电荷的研究