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机译:MBE生长的Cd(x)Hg(1-x)Te薄膜的电参数对铟掺杂水平的依赖性
MINORITY-CARRIER LIFETIME; MERCURY CADMIUM TELLURIDE; EPITAXIAL LAYERS; HGCDTE;
机译:MBE生长的Cd(x)Hg(1-x)Te薄膜的电参数对铟掺杂水平的依赖性
机译:铟掺杂Hg_0.8Cd_0.2Te / Cd_0.96Zn_0.04Te异质结构的结构,电学和光学性质研究
机译:铟掺杂Cd_(0.6)Hg_(0.4)Se薄膜的结构,光,电和光电化学研究
机译:MBE生长的掺砷Hg_(1-x)Cd_xTe外延层的电激活和电性能
机译:半导体结中深层杂质的电学表征:掺D的P型硅上的肖特基势垒。
机译:超声喷雾热解法形成铟掺杂氧化锌薄膜的研究:气溶胶溶液中水分的含量和基质温度对提高电迁移的重要性
机译:单势垒Hg_(1-x)Cd_x Te异质结构的电学研究