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Effect of a Transverse Applied Electric Field on Electron Drift Velocity in a GaAs Quantum Wire: A Monte Carlo Simulation

机译:横向施加电场对GaAs量子线中电子漂移速度的影响:蒙特卡洛模拟

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摘要

A Monte Carlo simulation is run to study the electron transport in a thin undoped GaAs quantum wire under the influence of a transverse applied electric field. Phonon and surface-roughness scattering are included. Electron drift velocity is investigated as a function of roughness amplitude at a temperature of 77 or 300 K and a longitudinal electric field of 10~4 or 10~5 V/m. A transverse applied field is shown to provide a means of controlling drift velocity, affecting the scattering rate.
机译:进行了蒙特卡洛模拟,以研究在横向施加电场的影响下,细的未掺杂GaAs量子线中的电子传输。包括声子和表面粗糙度散射。研究电子漂移速度与温度在77或300 K和纵向电场为10〜4或10〜5 V / m时粗糙度幅度的函数。示出了横向施加场以提供控制漂移速度的方法,该漂移速度影响散射速率。

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