Micromachining system accommodates large wafers

Robert Bann; Paul Apte; Andreas Ostendorf; Klaus Korber; Thorsten Temme

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Micromachining system accommodates large wafers

机译：微加工系统可容纳大晶圆

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Combining a galvanometer deflected-beam positioning system with linear stages boosts throughput of the micromachining process.

机译：将检流计偏转光束定位系统与线性平台相结合，可提高微加工过程的生产率。

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来源
《Laser Focus World: The Magazine for the Photonics & Optoelectronics Industry》 |2001年第1期|共3页
作者
Robert Bann; Paul Apte; Andreas Ostendorf; Klaus Korber; Thorsten Temme;
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原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类光学;
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