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机译:SF6等离子体蚀刻硅纳米晶体
QUANTUM DOTS; LIGHT; SIZE; PHOTOLUMINESCENCE; EMISSION;
机译:SF6等离子体蚀刻硅纳米晶体
机译:晶圆温度和氧气含量对同时用SF6 / O-2等离子体进行低温硅蚀刻的影响
机译:SF6电感耦合等离子体的硅低温蚀刻:组合建模和实验研究
机译:SF6等离子体刻蚀和微等离子体反应器中硅的轮廓演变
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:SF6优化的对二甲苯C的O2等离子体蚀刻
机译:硅腐蚀中使用的混合气体等离子体中化学过程的建模。第2部分:SF6 / O2用于蚀刻硅的气态混合物等离子体中化学过程的建模。第2部分:SF6 / O2