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机译:用于深层X射线光刻的低成本透明SU-8膜掩模
机译:用于深层X射线光刻的低成本透明SU-8膜掩模
机译:适用于深X射线灰度光刻的SU-8膜的性能
机译:密堆积SU-8的超深X射线光刻技术的特点:I. SU-8浇铸程序可获得均匀的溶剂含量,并附带实验结果
机译:用于对齐的深层X射线光刻/ LIGA的透明掩模:使用玻璃膜的低成本高性能替代品
机译:通过深X射线光刻和电镀实现的微电磁旋转电机。
机译:X射线光刻掩模计量学:透射电子在SEM中用于线宽测量
机译:sU-8膜的性能适用于深X射线灰度级光刻
机译:用于X射线光刻掩模的金刚石膜。阶段2。