机译:基于酸催化缩醛化的环保负性抗蚀剂,用于193 nm光刻
Crosslinking; Photoresists; Water-soluble polymers; Photo-cross-linking; Impact; Photoresists; Polymers; Design;
机译:基于酸催化缩醛化的环保负性抗蚀剂,用于193 nm光刻
机译:具有DNA的环保型电阻切换存储器件作为活性层和生物基聚乙烯呋喃酸盐作为基材
机译:基于镍的负色调金属氧化物簇的研制抗亚10 nm电子束和氦离子束光刻的抗蚀剂
机译:专为193 nm光刻和环保型超临界CO2开发而设计的嵌段和无规共聚物抗蚀剂
机译:手性磷酸催化的乙酰化和Iso-Pictet-Spengler反应
机译:负电阻双光子光刻技术的使用和加工以实现圆柱磁性纳米线
机译:基于脂环族丙烯酸酯聚合物的化学扩增的负性抗蚀剂,用于193-nm光刻。
机译:使用酸催化抗蚀剂的193nm光刻的甲硅烷基化方法