integrated circuit; Robert Noyce of Fairchild; semiconductor industry;
机译:光刻课程
机译:多功能纳米光刻技术组合多曝光纳米透镜光刻和纳米晶体模板光刻
机译:反射电子束光刻:使用反射电子束光刻概念的无掩模电子束直接写入光刻方法
机译:全场EUV光刻:有关EUV ADT成像,EUV抗蚀剂和EUV标线的经验教训
机译:经验教训:在独立儿童医院中有效的首席医疗官的重要事件和经验教训。
机译:使用纳米球刻蚀,软刻蚀和等离子刻蚀制造的等离子纳米结构
机译:高分辨率纳米透明机构:近期纯粹和经济高效的自上而下的光刻的最新进展,用于≈10nm尺寸纳米图:从边缘光刻到次级溅射光刻(ADV。Mater。35/2020)
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。