机译:硅衬底表面和界面层中等离子体工艺诱发的潜在缺陷的表征
机译:硅衬底表面和界面层中等离子体工艺诱发的潜在缺陷的表征
机译:暴露薄Si表面层中等离子体诱导缺陷产生过程的定量表征
机译:沉积在具有Fe缓冲层的Si(0 01)衬底上的Be / W双层中的界面表征和原子混合过程
机译:等离子体工艺对栅氧化层的潜在损伤,由单层和多层天线结构演示
机译:金属-聚合物界面:分子-水平合成和表征铂-聚苯乙烯界面和通过硫官能化的聚苯乙烯在金表面上的自发吸附制备的聚合物单层。
机译:在Si衬底上机械剥离MOS2原子层的表面表征
机译:等离子体处理在硅衬底表面和界面层中引起的潜在缺陷的表征