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机译:CVD和ALD Co(W)薄膜中的自组装纳米填充结构作为单层阻挡层/衬里,可用于将来的Cu-互连
机译:CVD和ALD Co(W)薄膜中的自组装纳米填充结构作为单层阻挡层/衬里,可用于将来的Cu-互连
机译:使用Amidinato前体作为下一代Cu-互连的单层阻挡层/衬里的CVD和ALD Co(W)膜
机译:基于前体的纳米结构设计及其在未来铜互连中作为单层阻挡层/衬里层的Co(W)合金膜的加工
机译:ALD / CVD-Co(W)膜作为22-1x nm世代互连的单个阻挡层/衬里层的比较研究
机译:铜互连中用于衬里的CVD钌和非晶态钌-磷合金膜的生长与表征
机译:SiC膜的合成与应用的进展:从CVD到ALD和MEMS到NEMS
机译:等离子体辅助ALD与卷对卷大气压PE-CVD处理聚合物上的防潮膜之间的协同作用