...
首页> 外文期刊>クリ-ンテクノロジ-: クリ-ン化技術の専門誌 >シリコンウェーハ表面のCVDパーティクル:核モデルによる幾何学的寸法の解析と誘起汚染量の推定
【24h】

シリコンウェーハ表面のCVDパーティクル:核モデルによる幾何学的寸法の解析と誘起汚染量の推定

机译:硅瓦哈表面上的CVD粒子:核模型的估计几何尺寸

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

ウェーハ表面の品質トラブルであるCVDパーティクル現象について解説した。核モデルを通用することで、CVDパーティクルの幾何学的寸法から核サイズを見積もることができる。核を構成する物質を事前に同定·定量することは現状の分析手法では困難である。
机译:我们解释了CVD粒子现象,这是晶圆表面上的质量麻烦。 通过应用核模型,可以从CVD粒子的几何维度估算核大小。 很难识别和量化通过当前分析方法提前使核的物质。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号