机译:高晶体,大谷物Cu2COSNS4薄膜,通过直接溶液旋涂用于光电器件应用的可再现化学计量
Incheon Natl Univ Dept Elect Engn Incheon 406772 South Korea;
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Cu2CoSnS4; Dimethylformamide; Direct solution coating; Annealing temperature; Electrical properties; Photosensitivity;
机译:高晶体,大谷物Cu2COSNS4薄膜,通过直接溶液旋涂用于光电器件应用的可再现化学计量
机译:退火温度和稳定剂对通过直接旋涂在热氧化Si晶片上的Cu2COSNS4薄膜的形态学演变的影响
机译:晶体TiO2薄膜的室温制备及其在聚合物/ TiO2混合光电器件中的应用
机译:用于晶体硅太阳能电池应用的低成本旋涂钝化膜
机译:面向下一代光电子的透明导电氧化物:新颖的功能设计,薄膜生长以及在光电子设备中的应用。
机译:在全氧化物器件的钙钛矿衬底上外延生长高结晶尖晶石铁氧体薄膜
机译:晶体氧化钼薄膜用作光电器件中的界面层