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偏光全反射蛍光EXAFSによる金属単原子の三次元吸着構造解析

机译:偏振总反射荧光外荧光外荧光荧光荧光荧光荧光阳离子的三维吸附结构分析

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摘要

金属/酸化物相互作用の最も基本的なパラメータである金属単原子/酸化物相互作用を理解することを目的に偏光全反射蛍光EXAFSを用いてα-Al_2O_3(0001)およびTiO_2(110)上でのNi単原子の吸着サイトおよび三次元構造を実験的に明らかにした。 その結果,Niの吸着サイトは両基板とも本来バルクであればカチオンが位置する,"仮想カチオンサイドに相当した。すなわちNi単原子は表面に露出することでカチオンとの結合が切れた配位不飽和な酸素と選択的に相互作用することを意味している。 そして,吸着構造は基板の結晶構造を反映している。 従来からTiO_2(110)表面では,酸素欠陥が吸着の重要なサイトであると信じられてきた。 欠陥は活性なダングリングボンドを持ち,反応性が高いことにその根本がある。確かに,半導体や金属では,欠陥が成長の基点となる。 しかし,酸化物では,電荷の異なる酸素イオンと金属イオンがあり,欠陥も当然ながら電荷の符号をもつ。 したがって,吸着する原子がどういうイオンになりやすいかを考慮しなければ,正しい吸着位置を推測することができない。 実際最近の理論計算ではCu,Ag,Auのうち酸素欠陥がテラスの仮想カチオンサイトに比べ安定な吸着サイトとなるのはAuのみであるという報告もされている。イオン性をもつ酸化物の場合には,半導体や金属で成り立った知見がそのまま通用できない場合もあることを本研究は示している。
机译:以理解金属酰基/氧化物相互作用的目的,是使用偏振总反射荧光的金属/氧化物相互作用,α-Al_2O_3(0001)和TiO_2(110)的最基本参数,EXAFS的吸附位点和Ni的三维结构实验澄清了Ni的MONOATOM。结果,Ni吸附部位最初是阳离子,其两个底物是阳离子,其对应于“虚拟阳离子侧。即,通过曝光表面难以忍受。这意味着意味着选择性地与饱和氧气相互作用。和吸附结构反映了基材的晶体结构。在TiO_2(110)表面中,氧缺陷是吸附的重要部位,它被认为具有主动悬挂键。存在有源悬空键,并且有一个根。当然,在半导体和金属中,缺陷成为生长的基本点。然而,在氧化物中,具有不同电荷和金属离子的氧离子,并且自然地具有缺陷。因此,如果吸附原子可能是离子的。因此,如果吸附原子可能是离子离子,无法猜到正确的吸附位置。实际上,在最近的理论上计算中,还据报道,氧缺陷是Cu,Ag,Au和稳定的吸附部位的稳定吸附位点。在具有离子性的氧化物的情况表明,可以不使用半导体和金属的知识。

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