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最近の事例に学ぶ精密位置決めの設計技術:半導体用露光装置における精密位置決め技術

机译:近期学习精密定位设计技术:半导体曝光装置中的精密定位技术

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摘要

同期精度を確保する制御方法としてはウェハとレチクルそれぞれが絶対精度を保ってスキャンする自己完結型と,どちらかが相手方の位置に対して追従するマスタースレイブ型があるが,当社ではRSがWSに追従する方法を採用している。よって最終的な同期精度はRSによって決定される。 WSがある程度気ままな動きをしようともRSががhばればつじつまが合ってしまう。 RSは言ってみれば野球で言う「クローザー」のような存在である。 そして今回は,すでに量産の場で活躍している半導体露光装置NSR-S308Fに採用されているRSの構成や制御方法に話題を絞って紹介する。
机译:作为一种控制方法,以确保同步精度,有一种自固定类型,每个晶片和掩模版保持绝对精度和站立的主从型,只遵循另一方的位置,但rs是我们采用的如何遵循。 因此,最终同步精度由卢比确定。 如果WS在某种程度上移动,则RS将配备H形。 卢斯是“更近”的存在,说棒球。 此时,我们将介绍在半导体曝光设备NSR-S308F中采用的RS的配置和控制方法的主题,该曝光装置NSR-S308F已经活跃在大规模生产的地方。

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