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最近の事例に学ぶ精密位置決めの設計技術:半導体露光装置における精密位置決め技術開発の実相

机译:近期精密定位学习的设计技术:半导体曝光设备精密定位技术开发的实际相位

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摘要

半導体ICのデザインルールの微細化要求を満たすべく露光装置の更新がなされている。周期はシリコンサイクルに相当している。筆者は大学人となる数年前まで民間企業の技術者であり,そこで露光装置の開発に従事していた。すでにシリコンサイクルの一周期は過ぎており筆者の経験は過去のものである。 しかし,昔操った杵柄。 ここに精密位置決め技術の動向に関する一解説を行う。
机译:更新曝光设备以满足半导体IC的设计规则的小型化要求。 该循环对应于硅循环。 我是一家私营公司工程师,这是几年前的财政年度,并从事曝光设备的开发。 硅循环的任何循环已经过去。 但是长式包包。 在这里,我们将评论精密定位技术的趋势。

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