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錫(Sn)めっきコネクタの接触面に大気中高温下で成長する酸化皮膜の物理的特徴とその接触抵抗への影響

机译:锡(Sn)电镀连接器接触表面上生长在大气高温下生长的物理特性及其对接触电阻的影响

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摘要

コネクタ等の接触部に用いられる錫めっき表面は錫の酸化皮膜で常に覆われ、大気中の気体を遮断し、接触面に耐食性を持たせる特徴がある。しかし、この酸化皮膜が接触部に介在すると接触抵抗を高め、接触信頼性を害する。特に低接触力の接触部では非常に重要となる。この酸化皮膜の成長則を筆者らは、既に明らかにした。すなわち、室温では10nm程度の厚さで飽和し、温度を上昇(80~120°C)させた場合も同様の傾向を示すことがわかった。この報告では、酸化温度を150°Cに上げ、その成長則を調べたところ、前回の場合と著しく異なることを見出し、この原因が光学定数の変化に対応し、皮膜の組成に起因することを明らかにした。室温から80°CまではほぼアモルファスのSnOが支配的であるが、120°Cになると結晶化したSnO_2が島状に成長する。150°Cではさらにこれが顕著となり、上記の特性となることを判明した。
机译:用于诸如连接器的接触部分的镀锡表面总是用氧化锡膜,在大气中阻挡气体,并且在接触表面上具有耐腐蚀性。然而,当氧化物膜中介入接触部分时,接触电阻增加并且接触可靠性损坏。特别地,低接触力的接触部分非常重要。该氧化膜的作者已经揭示了。也就是说,发现在室温饱和在约10nm的厚度下,升温(80至120℃),表现出相同的趋势。在本报告中,当氧化温度升高至150℃并检查生长规则时,发现它与前一个情况有显着不同,并且该原因对应于光学常数的变化并导致它到期涂层的组成。揭示了。虽然几乎无定形的SnO占据了室温至80°C,但是当达到120℃时,SnO_2在岛状上达到120°C时。在150°C时,这更明显,事实证明,上述特征是。

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