...
首页> 外文期刊>Физика и техника полупроводников >Теоретические и экспериментальные исследования вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик HEMT структур и полевых транзисторов
【24h】

Теоретические и экспериментальные исследования вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик HEMT структур и полевых транзисторов

机译:的结构和HEMT FET的电流 - 电压和电容 - 电压特性的理论和实验研究

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

Проведены исследования чувствительности параметров классических n~+/n~- GaAs и AlGaN/GaN структур с двумерным электронным газом (НЕМТ) и полевых транзисторов на их основе к у-нейтронному воздействию. Определены уровни их радиационной стойкости. Развит метод экспериментального исследования структур на основе дифференциального анализа вольт-фарадных характеристик, позволяющий определять слои структуры, в которых накапливаются радиационные дефекты. Впервые предложена методика, позволяющая учесть изменение площади обкладок измеряемой емкости барьерного контакта, связанной с возникновением кластеров радиационных дефектов, формирующих диэлектрические включения в слое двумерного электронного газа.
机译:进行了经典N〜+ / N〜 - GaAs和AlGaN / Ga / N〜 - GaAs和AlGaN / Ga(NTOM)和现场晶体管的敏感性,基于它们对U形效应进行。确定其辐射抗性的水平。开发了基于差异分析的结构的结构的实验研究,其允许确定累积辐射缺陷的结构的层。首次提出了一种技术,使我们能够考虑与在二维层中形成介电夹杂物的辐射缺陷的发生相关联的屏障接触的测量容器区域的变化。电子气体。

著录项

  • 来源
  • 作者单位

    Нижегородский государственный университет Н.И. Лобачевского 603600 Нижний Новгород Россия;

    Нижегородский государственный университет Н.И. Лобачевского 603600 Нижний Новгород Россия;

    Нижегородский государственный университет Н.И. Лобачевского 603600 Нижний Новгород Россия;

    Нижегородский государственный университет Н.И. Лобачевского 603600 Нижний Новгород Россия;

    Национальный исследовательский университет ?Московский институт электронной техники" (МИЭТ) 124498 Москва Зеленоград Россия;

    Национальный исследовательский университет ?Московский институт электронной техники" (МИЭТ) 124498 Москва Зеленоград Россия;

    Нижегородский государственный университет Н.И. Лобачевского 603600 Нижний Новгород Россия;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

    ОАО ?Научно-производственное предприятие ?Салют" 603950 Нижний Новгород Россия;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 rus
  • 中图分类 半导体物理学;
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号