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【24h】

小特集「イオン技術の新しい発展」に寄せて

机译:小功能“离子技术的新发展”

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摘要

1980年代から1990年代にわたってイオンビームを用いた材料プロセスは当時の革新的技術の一つとして,妾宅が国はもとより世界的にも大変盛hとなり,これに関する国際会議も数多く行われ,毎年多数の参加者で腺わった。しかし国内ではいわゆるバブル経済の崩壊後その勢いがだhだh小さくなり,基礎研究における節匪講読的な成果にもかかわらず,今では単純にイオン技術と言うだけではそれほど注目されなくなっている。 その理由として高価な装置構成であるとともに,半導体へのイオン注入以上に,これと言った実用化の成果カぎ色々出なかったことなどがあげられる。
机译:使用20世纪80年代到20世纪90年代的离子束的材料过程是当时的创新技术之一,而且该国也是一个主要的全球性,以及对此的许多国际会议将进行。参与者是腺体。 然而,在日本,所谓的泡沫经济崩溃后,它是很小的,尽管它只是离子技术,但尽管它只是离子技术,但尽管它是如此只是离子技术。 它是一种昂贵的设备配置,原因是,它可能超过实际使用的结果,所以表示它远离半导体的离子植入。

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