ラジカルを用いた低温で安価な窒化物膜の作製とコーティングへの応用

摘要

金属の窒化物薄膜，中でも遷移金属の窒化物薄膜は，一般に高硬質材料であること，耐腐食性に優れている等の特性から，コーティング材料等広く工業的に用いられている． 金属窒化物膜を作る手法としては，スパッタリング法，化学気相成長(Chemical Vapor Deposition : CVD）法，蒸着法等がある． さらに近年では，数nmの極薄膜を成膜する手法として，Atomic Layer Deposition (ALD）法が提案されている． これらのさまざまな手法の中で，一般的に用いられている成膜方法として反応性スパッタリング法が挙げられる． これは，一般的に熱蒸着法では困難な高融点材料でも容易に成膜することができる，? CVD法等で必須の原料のガス化過程が不要で，かつ原料ガスから取り込まれる不純物等が少なく，級密で良質の膜が作製できる，再現性がよく量産に適しており，かつ大面積化に対する対応が比較的容易であること等の特徴を持っているからである．