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表面·薄膜物理学-原子テクノロジーの源流:第9章 Si(111)-5×2(s)-Au表面構造の解析-1次元と2次元構造の混合状態の規則構造

机译:地表和薄膜物理源原子技术源:第9章Si(111)-5×2(S)-U表面结构分析规则结构的1D和二维结构的混合状态

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摘要

様々な表面のLEED(低速電子回折)やRHEED(反射高速電子回折)パターンを観察すると珍しい逆格子が観察されることがある.その代表的なものが線状に伸びた反射(ストリーク)である.2次元的表面の逆格子はこの面に垂直な方向に伸びたロッド(ストリーク)となる(第1章図8).すなわち,干渉に関与する面の数が少ないとこの面に垂直な方向にストリークを生ずる.例えば積層欠陥や双晶があるとこれらの面に垂直な方向にストリークを生ずることはよく知られている.このような事実からストリークが観察されると「結晶性が悪い」というような簡単な認識で片付けてしまう場合が多い.そのような解釈でも差し支えない場合もあるが,構造に関する深い意味を暗示していることもまた多い.本稿ではSi(111)表面にAuが吸着した場合に形成される5×2(s)Au(sはstreakを伴うという意味)構造から現れる線状反射(ストリーク)について回折理論的な立場から考察する.この表面構造のパターンには,5倍構造の鋭い反射点と線状反射が共存して現れるので,単純に結晶性が悪いといって見過ごすことはできない場合である.
机译:当观察到的LEED(低速电子衍射)和RHEED(反射的高速电子衍射)图案时,可以观察到罕见的反向格子。代表性的是线性延伸的反射(条纹)。二维表面的逆栅格变为沿垂直于该表面的方向延伸的杆(条纹)(第1章图8)。也就是说,如果干扰中涉及的表面的数量小,则在垂直于该表面的方向上产生条纹。例如,众所周知,如果存在层压缺陷和双胞胎,则在垂直于这些表面的方向上产生条纹。如果从这些事实中观察到条纹,则通常用简单的识别(例如“坏结晶度”)清除。尽管可能无法通过这种解释,但是也可以暗示结构的深层含义。在本文中,当AU吸附到Si(111)表面时形成5×2(S)Au(S)Au(S)被认为是从结构中出现的线性反射(条纹)(条纹)做。该表面结构的图案是在共存中出现5×结构和线性反射的尖锐反射点的情况,因此可以看出结晶度简单地令人不愉快。

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