机译:动态表面位点激活:电子束诱导刻蚀的速率限制过程
electron beam induced etching; ultra nanocrystalline diamond; reaction kinetics; defect generation; nanofabrication; surface chemistry;
机译:动态表面位点激活:电子束诱导刻蚀的速率限制过程
机译:聚焦离子束引起的表面非晶化和镓注入-聚焦电子束诱导蚀刻的新见解和去除
机译:使用电子束诱导的碳沉积,然后进行湿法化学蚀刻,在GaAs表面上进行三维制造
机译:高纯氢的电子束诱导蚀刻(EBIE)-硅表面的交替原位干法清洁工艺
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:接触诱导的血小板活化和扩散后主要血小板表面受体的动态重新分布。免疫电子显微镜研究。
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