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一种基于水冰的电子束诱导刻蚀工艺

摘要

本发明公开了一种基于水冰的电子束诱导刻蚀工艺,包括:(1)将附着在基底上的二维材料放入扫描电子显微镜镜腔内,将基底和二维材料降至低温;(2)通入气体,气体在样品上表面形成冰膜;(3)利用电子束对选定区域的二维材料进行刻蚀,升温直到剩余冰膜被完全去除,得到带有刻蚀图案的二维材料;所述冰膜为由所述气体凝华后形成的固体薄膜;所述低温为等于或低于所述气体在对应气压下的凝华点的温度。与现有方法相比,本发明不需要化学试剂处理,通过升高温度去除冰层,避免了化学污染。整个加工过程都在电镜中进行而无需额外设备。具有良好的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN111792622B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西湖大学;

    申请/专利号CN202010944568.4

  • 发明设计人 姚光南;赵鼎;王朝阳;仇旻;

    申请日2020-09-10

  • 分类号B81C1/00(20060101);

  • 代理机构33315 杭州知闲专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人黄燕

  • 地址 310024 浙江省杭州市西湖区转塘街道石龙山街18号

  • 入库时间 2022-08-23 11:34:06

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