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【24h】

[招待講演]ミリ波·サブミリ波帯無線通信に向けた化合物半導体電子デバイスおよび高周波計測技術

机译:[邀请谈话]复合半导体电子设备和高频测量技术朝向毫米波血管频带无线通信

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摘要

窒化ガリウム(GaN)系高電子移動度トランジスタ(HEMT)等の化合物半導体電子デバイスは,周波数100GHz以上で動作可能であるため超高速無線通信用デバイスとして,またミリ波·サブミリ波帯(30GHz~3THz)における未利用周波数帯開拓のキーデバイスとして注目されている.今回,100nm以下のゲート長(L_g)を有するGaN基板上In_(0.18)Al_(0.82)N/AlN/GaN HEMTの高速·高周波化において最大発振周波数(f_(max))287GHzを達成したので報告する.また,ミリ波·サブミリ波帯で動作するモノリシック集積回路(MMIC)等の設計に必要不可欠な半導体基板等の比誘電率を測定可能な材料評価システムを設計·開発し,自由空間Sパラメータ法によりインジウムリン(InP)基板,ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルムおよびポリスチレン(PS)フィルムの比誘電率を60~220GHzで測定したので報告する.
机译:诸如氮化镓(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)的化合物半导体电子器件可以以100GHz或更高的频率操作,作为用于超高速无线通信的设备,以及毫米波/亚倍数波带( 30 GHz到3星期六)。它是吸引注意力作为未使用频率带宽的关键设备)。此时,在高速和高频的IN_(0.18)AL_(0.82)N / ALN / GAN HEMT的高速和高频,具有100nm或更小的栅极长度(L_G),实现最大振荡频率(F_(MAX))287GHz。做。另外,能够测量半导体衬底等的相对介电常数的材料评估系统,其设计和开发和开发在毫米波/潜水波带中操作的单片集成电路(MMIC)是必不可少的。通过自由空间S参数方法,我们在60至220GHz下报告铟磷(InP)基材,聚四氟乙烯(PTFE)膜和聚苯乙烯(PS)膜的相对介电常数。

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