シミュレーテッド·アニーリング法を用いたセル概略配置の座標精度に関する検討

摘要

スタンダード·セル方式の大規模集積回路のセル配置処理は、概略配置と詳細配置から構成される。 概略配置では、セルの大まかな位置が決められ、詳細配置へも重要な影響を与える。 しかしその座標精度について、われわれの知る限り議論されていない。 そこでわれわれは、概略配置において、シミュレーテソド·アニーリング法を用いた総配線長のコスト関数による最適化過程の中で、その座標精度を配置スロット幅として規定したや12,000～69,000個のセル数を持つ8種のベンチマーク回路を用いた詳細なコンピュータ実験を行なって最終解を求めた。 その結果、約25個×平均セル幅のスロット幅において、総配線長が最小になることを見出したのでここに報告する。シミュレーテッド·アニーリング法の温度冷却スケジュールを0.92から0.97まで調べたが、この最適なスロット幅と最終コストはほぼ変わらない。本報告では、以上の実験結果と、その最適なスロット幅とセル横幅による最終解への影響について論ずる。