イオンビームエッチングによるnmスケールの微小突起の創成と機能性の付加

摘要

コンピュータ用磁気ディスク装置の更なる高記録密度化のためには，HDI（Head Disk Interface）の改良と設計が急務の課題である．従来は磁気スライダーは完全浮上していたが近年は浮上高さが減少し，読み取り/書き取り時においても時折接触するようになってきた．このような状況において，磁気ヘッドと磁気メディアの実効的な距離（磁気スペーシング）を一定に保つことが必至であるが，アクチュエータによるスライダーの運動制御では周波数応答の面から非常に困難な状況である．そのため，ますます新しいHDI技術による磁気スペーシングの一定化技術が求まられている．そこで，本研究では新しいnmスケールの微小突起を創成する方法を提案し，その加工特性について明らかにする．また，あわせて実際のHDIを模擬した実験を行い摩擦特性の安定化が得られたので報告する．