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WEDG加工技術と単発放電を併用して微細ボール状探針の開発

机译:使用WEDG加工技术和单次放电开发微球形探头

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摘要

最近,電子技術,機械技術などの進歩に伴って,ミクロンオーダーの加工技術は不可欠になってきた.そめミクロンオーダーの部品を測定するのにマイクロプローブが重要である.特に3次元測定機,電子部品の検査測定,穴の内部計測などにマイクロプローブが不可欠である.現在,微細プローブの成形手法は半導体プロセス,電解研摩,機械研摩,放電加工などが挙げられている.半導体プロセスでは量産性がよいだけでなく,微細化,コンパクトで一括成形ができる.しかし,プローブの材料が半導体材料に限られている.一方,WEDGの開発により金属の極微細ピン,微細探針などの成形ができるが,数ミクロンのボール状プローブを成形するには複雑なNC制御が必要である.また,成形したプローブの表面荒さは放電のクレーターの大きさに限られているので精密な測定機のプローブとして適用しにくいのである.更に,ナノテクの分野で重要な役割を占めている走査型トンネル顕微鏡汎用の探針は,先端ができるだけ尖っている事が必要である.
机译:最近,随着电子技术和机械技术等进步,微米级的加工技术已成为必不可少的。微透视对于测量微米级的部件非常重要。特别地,微探针对于检查测量的三维测量机,电子元件,孔的内部测量等必需。目前,细探针的形成方法包括半导体工艺,电解抛光,机械抛光,放电加工等。在半导体工艺中,质量生产率不仅是良好的,而且可以小型化,紧凑且紧凑。然而,探针的材料限于半导体材料。在另一方面,虽然WEDG的发展可以通过金属和细探针等的极细销被模制时,需要复杂的NC控制,以形成几微米的球形探针。此外,由于模制的探头的表面粗糙度限制在放电痕迹的大小,它是难以适用作为精密测量机的探针。此外,占据在纳米技术领域的重要作用,扫描隧道显微镜探针探测要求提示,指出要尖锐。

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