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WEDG加工技術と単発放電を併用して微細ボール状探針の開発

机译:结合WEDG处理技术和单次放电技术开发细球形探针

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摘要

最近,電子技術,機械技術などの進歩に伴って,ミクロンオーダーの加工技術は不可欠になってきた.そめミクロンオーダーの部品を測定するのにマイクロプローブが重要である.特に3次元測定機,電子部品の検査測定,穴の内部計測などにマイクロプローブが不可欠である.現在,微細プローブの成形手法は半導体プロセス,電解研摩,機械研摩,放電加工などが挙げられている.半導体プロセスでは量産性がよいだけでなく,微細化,コンパクトで一括成形ができる.しかし,プローブの材料が半導体材料に限られている.一方,WEDGの開発により金属の極微細ピン,微細探針などの成形ができるが,数ミクロンのボール状プローブを成形するには複雑なNC制御が必要である.また,成形したプローブの表面荒さは放電のクレーターの大きさに限られているので精密な測定機のプローブとして適用しにくいのである.更に,ナノテクの分野で重要な役割を占めている走査型トンネル顕微鏡汎用の探針は,先端ができるだけ尖っている事が必要である.
机译:近年来,随着电子技术和机械技术的进步,微米级加工技术已成为必不可少的技术。微探针对于测量微米级的零件很重要。特别是,微探针对于3D测量机,电子零件的检查和测量以及孔的内部测量必不可少。当前,作为细探针的成型方法,提到了半导体工艺,电解抛光,机械抛光,放电加工等。在半导体工艺中,不仅良好的批量生产能力,而且还可以实现小型化,紧凑化和批量成型。但是,探针材料限于半导体材料。另一方面,随着WEDG的发展,可以模制金属的超细销和细探针,但是需要复杂的NC控制才能形成几微米的球形探针。此外,由于模制探针的表面粗糙度被限制为放电弹坑的尺寸,因此难以将其用作精密测量机的探针。此外,在纳米技术领域中发挥重要作用的用于扫描隧道显微镜的通用探针需要具有尽可能尖的尖端。

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