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机译:富含Si的碳化硅薄膜原位退火的影响
School of Electronics Engineering VIT University Chennai - 600127 Tamil Nadu India;
School of Mechanical and Building Sciences VIT University Chennai -600127 Tamil Nadu India;
In-Situ Annealing; Nanoclusters; Optoelectronics; Silicon Carbide; Spectroscopy;
机译:富含Si的碳化硅薄膜原位退火的影响
机译:氢化非晶富硅碳化硅薄膜热退火后结晶硅量子点的合成及结构性能
机译:氢化非晶态富硅碳化硅薄膜热退火后硅量子点的结晶机理
机译:准分子激光退火制备的硅薄膜的原位和异位测量
机译:4H碳化硅外延膜中的薄多型夹杂物以及碳化硅的碳氢振动中心的同位素和非谐效应。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:通过快速热退火工艺提高氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:先进碳化硅薄膜生长技术的研究与开发及高功率微波频率碳化硅器件结构的制作