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Investigation of the Structural Perfection of Thin-Film InAlGaPAs/GaAs Heterostructures

机译:调查薄膜inalgapas / Gaas异质结构的结构完美

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摘要

The influence of growth conditions on the structural perfection of thin-film InAlGaPAs/GaAs heterostructures is discussed. The main determined growth parameters are the growth temperature and its gradient, liquid-zone thickness, matching between lattice parameters and the thermal expansion coefficients of the layer and substrate, and dislocation density in the substrate.
机译:讨论了生长条件对薄膜含量/ GaAs异质结构的结构完美的影响。 主要确定的生长参数是生长温度及其梯度,液区厚度,晶格参数与层和基板的热膨胀系数之间的匹配,以及基板中的位错密度。

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