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机译:使用磁控反应离子蚀刻(MC-RIE)及其应用于离子阻力集成微泵的氟化聚酰亚胺微电网的制造
NIPPON TELEGRAPH &
TEL PUBL CORP INTERDISCIPLINARY RES LABS 9-11 MIDORI CHO 3 CHOME MUSASHINO TOKYO 180 JAPAN;
机译:使用磁控反应离子蚀刻(MC-RIE)及其应用于离子阻力集成微泵的氟化聚酰亚胺微电网的制造
机译:在微型泵制造过程中,Si干蚀刻过程中等离子体引起的聚酰亚胺膜片损伤。
机译:反应离子刻蚀法制备嵌段共聚物模板聚酰亚胺薄膜
机译:磁控反应离子刻蚀(MC-RIE)的微网格制造氟化聚酰亚胺
机译:用于嵌入式纳米磁器件制造的氮化硅薄膜的纳米级反应离子刻蚀
机译:在潜在的单纤维内窥镜扫描仪应用中在聚酰亚胺毛细管表面上制备电磁驱动的微线圈
机译:在微泵制造工艺中Si干蚀刻期间对聚酰亚胺隔膜的损伤造成的损伤
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<氧反应离子束蚀刻改性聚酰亚胺薄膜的增粘作用>>相似的文献