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机译:胶体二氧化硅性能的CMP工艺优化块状单晶衬底
Department of Materials Science and Engineering Hanyang University Seoul 04763 Republic of Korea;
Department of Materials Science and Engineering Hanyang University Seoul 04763 Republic of Korea;
AMES Micron Co. LTD Gimpo-si 10126 Republic of Korea;
aluminum nitride; chemical mechanical polishing; colloidal silica; material removal rate; surface chemistry; slurry agglomeration;
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