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机译:氧气对N-2光致电力的影响,通过介电阻挡放电等离子体处理制备的N空位嵌入G-C3N4的N-2光折叠能力
Northeastern Univ Sch Resources &
Civil Engn Shenyang 110819 Liaoning Peoples R China;
Northeastern Univ Sch Resources &
Civil Engn Shenyang 110819 Liaoning Peoples R China;
Liaoning Shihua Univ Coll Chem Chem Engn &
Environm Engn Fushun 113001 Peoples R China;
g-C3N4; N vacancies; N-2 fixation; Photofixation; Two-path;
机译:氧气对N-2光致电力的影响,通过介电阻挡放电等离子体处理制备的N空位嵌入G-C3N4的N-2光折叠能力
机译:通过H-2等离子体处理将n个空位嵌入G-C3N4对光催化H2O2生产能力的影响
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机译:高介电常数(Ba_(0.7)Sr_(0.3))(Ti_(0.9)Zr_(0.1))O_3使用等离子体处理的氧气空位效应的改进
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机译:介电阻挡放电等离子体制备的富缺陷TiO2增强了有机染料的光催化降解
机译:通过介电阻挡放电等离子体处理制备N - 空位掺杂的G-C 3 N 4,具有优异的光催化H202 2 O 2生产能力