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机译:血浆特性在正常和多孔中空阴离子RF PECVD中的比较及其在A-SINX中的效用:H薄膜沉积
Sungkyunkwan Univ Dept Adv Mat Sci &
Engn Ctr Adv Plasma Surface Technol Suwon 440746 North Korea;
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Hollow cathode discharge; RF plasma source; Plasma instability; Silicon nitride film;
机译:血浆特性在正常和多孔中空阴离子RF PECVD中的比较及其在A-SINX中的效用:H薄膜沉积
机译:中空阴极等离子体辅助原子层沉积法生长AlN薄膜的电导和介电弛豫特性
机译:双射频空心阴极等离子体射流沉积BaxSr1-xTiO3薄膜
机译:RF-PECVD和脉冲DC中空阴极PECVD沉积类金刚石薄膜的特性与比较
机译:等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统的设计和实现,该系统用于研究碳60聚合物复合薄膜和表面功能化对碳60的影响
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频增强等离子体化学气相沉积(RF pECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性质和沉积速率的影响
机译:用于研究仪器的pECVD(等离子体增强化学气相沉积)金刚石薄膜