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机译:基材温度对磁控溅射沉积铋薄膜形态和结构的影响
Shanxi Normal Univ Sch Chem &
Mat Sci 1 Gongyuan St Linfen 041004 Shanxi Peoples R China;
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Bismuth film; Magnetron sputtering; Substrate temperature; Melting point;
机译:基材温度对磁控溅射沉积铋薄膜形态和结构的影响
机译:溅射参数和氮对直流反应磁控溅射沉积在钢基底上的氮化铬薄膜微观结构的影响
机译:DC磁控溅射沉积的氮化钛薄膜的结构,形态学和机械硬度特性:基材温度的影响
机译:磁控溅射沉积温度对ZnO薄膜性能的结构转变
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:基板对磁控溅射制备TiO2薄膜结构,形貌和光学性质的影响