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赵庆勋; 张婷; 马继奎; 魏大勇; 王宽冒; 刘保亭;
河北大学物理科学与技术学院;
河北省光电信息材料重点实验室;
保定071002;
磁控溅射; 沉积温度; SrRuO3; BiFeO3薄膜;
机译:衬底温度对反应磁控溅射沉积AlN薄膜的结构性能和沉积速率的影响
机译:沉积温度对射频磁控溅射沉积Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3薄膜的微观结构和介电性能的影响
机译:基材温度对Cu_2O的结构和光学性能的影响:反应脉冲磁控溅射沉积的薄膜
机译:射频磁控溅射沉积的氧化钇稳定的氧化锆薄膜的结构和材料性能评估。
机译:射频磁控溅射沉积BiFeO3薄膜的结构和纳米力学性能
机译:电场和磁场,基板温度,压力和蒸发速率对气相沉积金属薄膜的成核,结构和残余性能的影响
机译:磁控溅射法在半导体异外延结构表面上沉积薄膜涂层的方法
机译:通过影响注射成型工具的模具腔壁与熔体之间的接触温度来改善在流动/焊接接缝和表面附近晶粒结构区域中塑料模具零件的表面性能的方法
机译:调谐器,窗框或其他用途,并在一定距离内用作塑料或类似材料制成的物体的结构,通过绝缘或抑制性能来防止不希望的温度,声音或其他影响
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