机译:衬底温度对反应磁控溅射沉积AlN薄膜的结构性能和沉积速率的影响
AlN thin film; sputtering; structural properties; substrate temperature; deposition rate;
机译:衬底温度对反应磁控溅射沉积AlN薄膜的结构性能和沉积速率的影响
机译:基板偏压对反应磁控溅射沉积沉积的ZrO2薄膜结构,机械和腐蚀性能的影响
机译:磁控溅射沉积Cu-Cr-O薄膜的三水铝石结构:衬底温度对光电性能的影响
机译:退火对磁控溅射法在硅衬底上沉积AlN薄膜的电子性能的影响
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:AlN中间层对大功率脉冲磁控溅射SiC薄膜结构和化学性能的影响
机译:基材温度对磁控溅射层逐层掺杂锌氧化物薄膜结构,光学和电性能的影响
机译:基体组成对反应溅射alN薄膜压电响应的影响;薄固体薄膜