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机译:衬底偏置对脉冲磁控溅射锡 - WSX硬润滑涂层结构和摩擦机械性能的影响
Indian Inst Technol Dept Mech Engn Kharagpur 721302 W Bengal India;
Indian Inst Technol Dept Mech Engn Kharagpur 721302 W Bengal India;
Hard-lubricious coating; Bias voltage; Pulsed magnetron sputtering; Tribological properties;
机译:衬底偏置对脉冲磁控溅射锡 - WSX硬润滑涂层结构和摩擦机械性能的影响
机译:衬底偏置电压对脉冲直流磁控溅射TiN-MoSx复合涂层结构和力学性能的影响
机译:衬底偏压对脉冲直流磁控溅射沉积TiAlSiN薄膜微结构演变和力学性能的影响
机译:脉冲频率和衬底偏压对脉冲DC磁控溅射沉积CRN涂层机械性能的影响
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积氮化钛和氮化铝钛涂层的摩擦学和结构性能
机译:AlN中间层对大功率脉冲磁控溅射SiC薄膜结构和化学性能的影响
机译:功率脉冲参数对调制脉冲功率磁控溅射AlCrN涂层组织和性能的影响