机译:不同厚度无定形钨/钨层中铜扩散的温度依赖性
Islamic Azad Univ West Tehran Branch Dept Phys Tehran 1477893855 Iran;
Islamic Azad Univ Sci &
Res Branch Plasma Phys Res Ctr Tehran 1477893855 Iran;
Islamic Azad Univ Sci &
Res Branch Plasma Phys Res Ctr Tehran 1477893855 Iran;
diffusion barrier; grain boundary diffusion; diffusion mechanism; Cu silicide; grain growth;
机译:不同厚度无定形钨/钨层中铜扩散的温度依赖性
机译:HFCVD作为铜的扩散阻挡层合成非晶钨/氮化钨的热稳定性
机译:对钨,钽和氮化钽扩散屏障的铜基纳米型纳米移层导热率的界面和层周期性效应
机译:铜多级互连钨氮化物扩散屏障的脉冲等离子体增强原子层沉积
机译:氮化钛,氮化钽和氮化钨作为铜和二氧化硅之间的扩散阻挡层的比较研究。
机译:在六方氮化硼上生长的二硫化钨原子层中双极激子发射的功率密度极低
机译:对钨,钽和氮化钽扩散屏障的铜基纳米型纳米移层导热率的界面和层周期性效应
机译:吸附一氧化碳第一振动水平位移研究对(III)钨(极慢电子的非弹性扩散)的贡献。致力于发展总理Niveau Vibrationnel de Loxyde de Carbone adsorbe sur la Face(III)du Tungstene(Diffusion Inelastique des Electrons Tres Lents)