机译:电极间距对电容耦合等离子体反应器沉积速率分布效应的数值分析
Samsung Elect Memory Thin Film Technol Team Hwaseong Si 445701 South Korea;
Pusan Natl Univ Dept Elect Engn Busan 609768 South Korea;
capacitvely coupled plasma; numerical simulation; deposition profile; PECVD;
机译:电极间距对电容耦合等离子体反应器沉积速率分布效应的数值分析
机译:电容耦合等离子体沉积反应器中侧壁条件优化的数值分析
机译:电容耦合等离子体反应器中气体速度和温度分布对a-Si:H膜沉积速率分布的均匀性控制
机译:使用电容耦合等离子体反应器中的外部电路的等离子体轮廓控制
机译:使用感应耦合等离子光发射光谱法和感应耦合等离子质谱法生成的元素轮廓来区分纸张类型。
机译:直流辉光放电等离子体中生成的聚苯胺和聚邻茴香胺层的形态和结构分析
机译:一种评估电容耦合等离子体反应器电极两端RF电压的技术
机译:单丝CVD反应器性能和沉积速率的数值和实验分析