plasma devices; plasma simulation; plasma sources; Maxwell equations; capacitively coupled plasma reactors; capacitively coupled plasma sources; electron density measurements; external circuit impedance; plasma boundary conditions; plasma profile control; plasma simulations; plasma structure; resonance cavity method; very high frequency sources;
机译:在电容耦合等离子体反应器中使用外部电路进行等离子体轮廓控制
机译:极高频电容耦合等离子体反应器中中心等离子体密度分布与谐波电磁波之间的关系
机译:电容耦合等离子体反应器中气体速度和温度分布对a-Si:H膜沉积速率分布的均匀性控制
机译:使用电容耦合等离子体反应器中的外部电路的等离子体轮廓控制
机译:使用感应耦合等离子光发射光谱法和感应耦合等离子质谱法生成的元素轮廓来区分纸张类型。
机译:电容耦合等离子体电极上的电压分布用于产生大气压等离子体
机译:分段非均匀介电模块设计用于均匀控制电容耦合等离子体室中的等离子体分布
机译:在托卡马克功率电抗器的欧姆加热电路中产生等离子体起爆脉冲的方法:电阻耗散,瞬态感应存储和瞬态电容存储