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A general method to construct dislocations in atomistic simulations

机译:构建原子模拟中的脱位的一般方法

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摘要

An important aspect of atomistic simulations of dislocations is the construction of the initial dislocation configurations. However, limited configurations can be constructed by previous methods, impeding the simulations of a general dislocation configuration in real materials. In this paper, we develop a simple and general method for constructing dislocations with arbitrary shapes specified by the users, realising the Volterra process at the atomic level. Examples of its applications to a dislocation helix, the partial dislocations, the multi-dislocation configurations, and the dislocations in the imperfect crystal are presented, showing the capacity and robustness of the present method.
机译:脱位原子模拟的一个重要方面是初始脱位配置的构建。 然而,可以通过先前的方法构建有限的配置,从而阻碍了实际材料中的一般位错配置的模拟。 在本文中,我们开发了一种简单而一般的方法,用于构建用户指定的任意形状的脱位,实现原子水平的Volterra工艺。 其应用于位错螺旋,部分脱位,多脱位配置和不完美晶体中的脱位的实例,显示了本方法的容量和鲁棒性。

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