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机译:通过射频电感耦合等离子体放电中四甲基硅烷的气相沉积通过气相沉积形成的薄膜的合成与性能
Russian Acad Sci Nikolaev Inst Inorgan Chem Siberian Branch Novosibirsk 630090 Russia;
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inductively coupled plasma; tetramethylsilane; thin films of hydrogenated silicon carbide and carbonitride;
机译:通过射频电感耦合等离子体放电中四甲基硅烷的气相沉积通过气相沉积形成的薄膜的合成与性能
机译:四甲基硅烷电感耦合等离子体化学气相沉积法在100℃合成SiO_2绝缘膜
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积法沉积氧化锡薄膜及其气敏特性
机译:用低电感天线的多种电感耦合等离子体模块通过等离子体增强化学气相沉积来合成微晶硅膜
机译:微波等离子体在硼-碳-氮三元体系中合成薄膜增强了化学气相沉积。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频电感耦合等离子体在金刚石状碳膜的化学气相沉积过程中的应用,用于改性沉积膜的性能