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Simple Metal-Free Direct Reductive Amination Using Hydrosilatrane to Form Secondary and Tertiary Amines

机译:使用氢硅烷形成简单的无金属直接还原胺化,形成二级和叔胺

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摘要

This work describes the use of cheap, safe, and easy-to-handle hydrosilatrane as the reductant in direct reductive amination reactions. This efficient method enables a facile, metal-free access to secondary and tertiary amines from a wide range of aldehydes and ketones, with the synthesis of tertiary amines requiring no additives at all. This reaction demonstrates excellent functional group tolerance, chemoselectivity, and scalability.
机译:这项工作描述了使用廉价,安全,易于处理的氢化硅烷作为直接还原胺化反应中的还原剂。 这种有效的方法能够通过各种醛和酮的仲胺和叔胺能够进行容纳,无金属,合成叔胺根本不需要添加剂。 该反应显示出优异的官能团耐受性,化学选择性和可扩展性。

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