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机译:基质 - 靶距离对Ga和(Al Plus Ga)结构和光学性质的影响 - 通过射频溅射沉积的涂覆的ZnO薄膜
Babes Bolyai Univ Phys Fac Cluj Napoca Romania;
Natl Inst Res &
Dev Isotop &
Mol Technol Dept Mol &
Biomol Phys Cluj Napoca Romania;
Tech Univ Cluj Fac Mat Engn &
Environm Cluj Napoca Romania;
Babes Bolyai Univ Phys Fac Cluj Napoca Romania;
Babes Bolyai Univ Phys Fac Cluj Napoca Romania;
Atomic force microscopy (AFM); doped zinc oxide thin film; Raman spectroscopy; X-ray diffraction (XRD);
机译:基质 - 靶距离对Ga和(Al Plus Ga)结构和光学性质的影响 - 通过射频溅射沉积的涂覆的ZnO薄膜
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机译:厚度对溅射磁控沉积的Ga掺杂ZnO薄膜结构,光学和电性能的影响(Vol 695,PG 697,2017)
机译:通过射频磁控溅射沉积的Al掺杂ZnO薄膜的显微照片和光学性质
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机译:基质 - 靶距离和Si共掺杂对磁控溅射沉积的铝锌膜性能的影响