机译:具有亚单层厚度的WS2缺陷结构域的选择性氧化导致光致发光的多滤器增强
Indian Inst Technol Mandi Sch Engn Kamand 175005 Himachal Prades India;
Indian Inst Technol Dept Elect Engn Powai 400076 Maharashtra India;
Indian Inst Technol Mandi Sch Basic Sci Kamand 175005 Himachal Prades India;
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Indian Inst Technol Mandi Sch Basic Sci Kamand 175005 Himachal Prades India;
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chemical vapor deposition (CVD) growth; defect engineering; in situ Raman spectroscopy; monolayer WS2; photoluminescence enhancement;
机译:具有亚单层厚度的WS2缺陷结构域的选择性氧化导致光致发光的多滤器增强
机译:单晶六角形WS2中的异构缺陷域
机译:通过结合氧化硅和硅纳米线来增强氧化硅缺陷态的光致发光
机译:使用ISSG在2 / sup /薄氧化物上进行选择性氧化形成双栅极氧化物,而不会影响1 / sup /厚氧化物厚度
机译:光谱电化学光致发光光谱和二氧化钛纳米粒子中反应性表面缺陷的成像。
机译:光致发光的空间控制在室温下WS2 / PZT混合结构中铁电畴的分布
机译:单层Ws2 / pZT混合结构中铁电畴室温光致发光的空间控制