机译:Boltzmann的数学模型适用于Baxsr1-xtio3薄膜薄膜沉积RF-agmetron共溅射设置的矩形方程
COARA Univ Autonoma San Luis Potosi Ingn Quim Matehuala San Luis Potosi Mexico;
COARA Univ Autonoma San Luis Potosi Ingn Quim Matehuala San Luis Potosi Mexico;
CICATA Legaria Inst Politecn Nacl Calzada Legaria 694 Mexico City 11500 DF Mexico;
CICATA Legaria Inst Politecn Nacl Calzada Legaria 694 Mexico City 11500 DF Mexico;
Univ Guanajuato Dept Ingn Agr DICIVA Campus Irapuato Salamanca Irapuato 36500 Gto Mexico;
COARA Univ Autonoma San Luis Potosi Ingn Quim Matehuala San Luis Potosi Mexico;
Sputtering deposition; thin films; stoichiometric behaviour; barium strontium titanate; Boltzmann's equation;
机译:Boltzmann的矩形方程的数学模型适用于Baxsr1-xtio3薄膜薄膜沉积RF-磁控耦合溅射的建设
机译:Boltzmann的数学模型适用于Baxsr1-xtio3薄膜薄膜沉积RF-agmetron共溅射设置的矩形方程
机译:玻尔兹曼S形方程的数学模型适用于薄膜沉积Ba $ _x $ Sr $ _ {1?x} $ TiO $ _3 $的射频磁控共溅射的建立
机译:金属有机化学气相沉积BaxSr1-xTiO3薄膜的超高密度DRAM特性
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:杂化钙钛矿的新型物理气相沉积方法:通过射频磁控溅射法生长MAPbI3薄膜。
机译:BA x sub> sr 1-x / sub> tio 3 sub>薄膜通过突出温度和化学计量效果