一种适用于管状等离子体薄膜沉积装置中的基片台

摘要

本发明涉及一种适用于管状等离子体薄膜沉积装置中的基片台，包括四根石英管（2）和固定在所述石英管（2）两端的支架盘（1），四根石英管（2）的端部均匀间隔设置在同一圆周上，其中一个支架盘（1）上设有进气口（4），另一个支架盘（1）封闭，所述石英管（2）上均匀设有多个安装基片的安装槽（3）。本发明解决了薄膜沉积过程中反应腔体内气体的均匀性问题，能够保证腔体内不同位置的基片都处在相同的气体氛围中，从而保证大批量生产时薄膜性能的一致性，可以进行薄膜的大批量沉积。