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Fe-18Cr合金に生成する不働態皮膜の半導体的挙動と耐食性

机译:Fe-18Cr合金中产生的钝化膜的半导体行为和耐腐蚀性

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摘要

(1)光電気化学応答では不働態皮膜は2層構造を有するとして得られた光電流を解析した結果バンドギャップが2.4eV及び3.4-3.5eVとなり皮膜形成電位·分極時間によらず一定であることが分かった。 (2)インピーダンス法より不働態皮膜のドナー密度は皮膜形成電位の上昇及び分極時間の増加とともに減少することが分かった。
机译:(1)在光电化学响应中,带隙为2.4eV和3.4-3.5eV和3.4-3.5eV和3.4-3.5 EV作为分析通过双层结构获得的光电流,无论如何都是恒定的薄膜形成电位和偏振时间。我理解。 (2)发现来自阻抗法的钝化膜的供体密度随着涂层形成电位的增加和偏振时间的增加而降低。

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