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PSII(プラズマソースイオン注入)法による硬質皮膜製作の現状と金型への応用

机译:PSII(等离子源离子植入)方法的硬膜生产现状及其在模具中的应用

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摘要

DLC(ダイヤモンドライクカーボン)は各種硬質薄膜のなかでも,高硬度による優れた耐摩耗性と低い摩擦係数(低μ)を特徴とするトライボコーティング膜(トライボロジー特性にすぐれた硬質薄膜)と位置付けることができる.炭化水素原料(ベンゼン·アセチレン等)をプラズマ中でイオン化,励起して成膜するイオン化蒸着法やプラズマ化学的気相合成法(CVD)法による水素を含有したアモルファスカーボン(a-C:H)であるDLCが一般的である.DLCの摩擦係数は多くの金属,セラミックに対して大気中で0.1~0.3の低い摩擦係数を示す.なかでも,アルミニウムや鉛合金等の軟質で凝着を起こしやすい材料に対しても摩擦係数が低く耐凝着性に優れている.これらの特性をDLCコーティングすることで金型に付加し,付加価値の高い商品と成すことが可能である.イオン化蒸着やプラズマCVDによる水素含有DLCの硬さは25~50GPaであり,圧縮残留応力も大きいため最大膜厚も2μm以下に制限される.主たる用途は,製缶や半導体リードフレーム加工におけるアルミニウムやはhだめっき等の軟質金属の金型表面への凝着防止等であり,通常には耐凝着·耐摩耗用途では実用膜厚は1μm前後である.相手材との接触面圧が高くなると,母材の弾塑性変形に伴って界面に働く応力が密着力を上回って剥離を生ずるため,塑性加工金型やガラス成形金型では,母材には変形を生じにくく熱膨張係数も小さい超硬合金やセラミック等の高硬度材料が使用されるととが多い.鋼やアルミニウム等のより硬さが低く熱膨張係数の大きい母材では,膜厚を薄くして剥離の危険を抑える必要があった.こうしたDLC膜の大きな圧縮残留応力による欠点を克服するため,新たに考案された負パルスバイアスイオンビーム法を用いて成膜することで高付着の厚膜DLC(2μm以上)の生成が可能となり,DLCの特徴である低摩擦係数や耐凝着性を維持し,耐摩耗性を向上することができる.また特筆点として,負パルスバイアスイオンビーム法を用いると複雑形状の金型に対し,直流バイアス法式より均一なコーティングが可能になったことである.
机译:DLC(金刚石碳)可以定位在摩擦涂膜(摩擦学特性优异的硬薄膜)定位,其特征在于各种耐磨性和低摩擦系数(低μ)的优异耐磨性和低系数(低μ)硬薄膜。可以。通过电离气相沉积方法和等离子体化学气相合成(CVD)方法,通过在等离子体DLC中电离烃原料(例如苯乙炔等),是含氢的无定形碳(AC:H)。 DLC的摩擦系数表示,在大气中的低摩擦系数为0.1至0.3,用于许多金属和陶瓷。其中,系数系数和接触性系数在易于引起铝和铅合金的材料中也是优异的。通过DLC涂层将这些性质添加到模具中,并且可以制成高度附加的值产物。通过电离沉积和等离子体CVD含氢DLC的硬度为25至50GPa,最大膜厚度限制在2μm或更小,因为压缩的残余应力也大。主要应用是抗铝的模具表面上的软金属,如填缝或半导体引线框架处理等,并且实际膜厚度通常用于粘合性和耐磨性。它约为1μm。当带有配合材料的接触表面压力很高时,作用在界面上的应力用基材的弹性塑性变形作用,导致剥离,使塑料加工模具和玻璃模塑模具常常难以引起通常使用变形和高硬度材料,例如热膨胀系数和陶瓷。在具有低硬度的基材中,例如钢和铝和大的热膨胀系数,有必要减少膜厚度以抑制剥离的风险。为了克服这种具有大的压缩残余应力的这种DLC膜的缺点,可以通过形成新设计的负脉冲偏置离子束方法来形成成膜,该离子束方法可以用高厚的薄膜DLC(2μm或更大)形成可以维持诸如DLC的特征的低摩擦系数和粘合性,并且可以提高耐磨性。而且,作为一个值点点,使用负脉冲偏置离子束方法来使从DC偏压法均匀涂覆到复杂形状的模具中。

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